DLC塗（tú）層就是類金剛石塗層，具有高硬度、耐磨損、低摩擦（cā）係數、良好的化學穩定性及高透光率等優異性（xìng）能（néng），得到廣泛應用。DLC塗層按（àn）照成分可以分為含氫DLC塗（tú）層（céng）和無氫DLC塗層，含氫DLC塗層主要采用化學氣（qì）相沉積（CVD）方（fāng）法（fǎ）沉積，含有大量飽（bǎo）和sp3鍵的氫元素（sù），使用（yòng）過程中經常（cháng）由於氫逸出導致性能退化。而無氫DLC塗層中sp3鍵全部由碳原子組成，結構上更加穩定可靠，使（shǐ）用（yòng）效果更好。那（nà）麽，常用無氫DLC塗層製備方法有（yǒu）哪些呢？如果想獲得較厚的膜層，該使用怎樣的方法製（zhì）備呢？下麵，麻豆影视国产在线观看小編為大（dà）家解析一（yī）下上述問題吧。

一、常用的無氫DLC塗（tú）層（céng）沉積（jī）製備方法分類 

1、電弧離子鍍

　電弧離子鍍是1964年首先公開了所發明（míng）的技術。它是在蒸發鍍膜的同時，用來源於等離子體的離子轟擊膜層。在上世紀70年代（dài）諸多電弧離子鍍技術相繼實用化（huà），主要用於製（zhì）備刀具塗層。
　　電弧離子鍍（dù）技術（shù）屬於（yú）冷場致弧光放電（diàn），製備過程如下：
　　工件（jiàn）經清洗入爐後抽真空。當真空度達到6X10 -3 Pa後，開啟烘烤加熱電源，對工件進行加熱。達到一（yī）定溫度後，通入氨氣，真空度降至（3～5）×10-1Pa。接通工件偏壓（yā）電（diàn）源，電壓調至100~200V。此（cǐ）時產生輝光放（fàng）電（diàn），從陰極弧（hú）源表麵發射出碳原子和（hé）石墨原子（zǐ）。在工件負偏壓的作用下，沉積到工件形成DLC底層（céng），以提高類金剛石塗層（céng）的附著力。

2、離子輔助沉積

　　離子輔助沉（chén）積技術英文縮（suō）寫IAD，是一種真空蒸發為基礎的輔助沉積方（fāng）法。是借助（zhù）少量高能（néng）離子及（jí）大量高能中子的連續作用，將金（jīn）屬或金屬化合物蒸氣沉積在工件的一種（zhǒng）表麵處理（lǐ）過程。
　　真空蒸發鍍膜過程中沉積的原（yuán）子或者分子在基體表（biǎo）麵的有限遷移率形成柱狀（zhuàng）的薄膜結構，所以在沉（chén）積的過程中對生長的薄膜利用離（lí）子源轟擊，將離子的動量傳給沉（chén）積的（de）原子或分子，使（shǐ）沉積的（de）分（fèn）子或者原子的（de）遷移率得（dé）到提高，從而抑製了柱狀結構的生長，使得光學介質（zhì）薄（báo）膜的密度增加（jiā），光（guāng）學（xué）性能進一步提高。

3、濺射沉積

　　濺射沉積是用（yòng）高能粒子轟擊靶材表麵，通（tōng）過粒子動量傳遞打出靶材中的原子及其他粒子（zǐ），使靶（bǎ）材中的原子濺射出來，沉積在基底表麵形成薄膜的方法。
　　濺射（shè）沉積技術具有（yǒu）可實現大麵（miàn）積快速沉積，無氫DLC薄膜與基體結合力好，濺射密度高、針孔少，膜（mó）層可（kě）控性和重複性好等優點，且任何物質都可以進行濺射，因而近年來發展迅（xùn）速，應用廣泛。

二、含氫DLC塗層製（zhì）備辦法還有一種叫物理氣相堆積(PVD)。

物理（lǐ）氣相堆（duī）積製備DLC薄（báo）膜，通過高溫蒸騰，氣體離（lí）子濺（jiàn）射石墨靶材，使碳（tàn）以（yǐ）離子或原子的方式堆積於基體上成膜（mó），這種薄膜外表粗糙，結合力差，工業應用效果不明顯。離子（zǐ）束堆積(IBD)、磁控濺射、陰極電（diàn）弧技能和脈衝激光（guāng）堆（duī）積(PLD)等，均能夠製備外表細密潤滑、內應力小、附著力強、摩擦係數較小的類金剛石（shí）塗層。

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