類金剛（gāng）石薄膜(DLC)由（yóu）於（yú）具有優良的光電和（hé）力學（xué）特性在工業上具有廣泛的應用前（qián）景近（jìn）年來DLC膜在許多方麵已得到了工業化應用如在切削刀具自（zì）動化機械零部件（jiàn）等的表麵（miàn）塗層處理上。但（dàn）是DLC膜的一個致（zhì）命弱點是內部應（yīng）力很高（gāo）使得薄膜的附著（zhe）力特性較差、不易厚膜化從而極大地限製了它的應用範圍。為了改善硬（yìng）質薄（báo）膜特別是（shì）DLC薄膜的（de）附著力特性，最近人們將目光投向了納（nà）米多層膜的研究上此法如果能優化多層膜的調製周期、各塗層種類等，可（kě）以（yǐ）兼顧內應力緩解與薄膜高硬度（dù）等特性，目前我司DLC加工廠開始引入Ti摻雜（zá）對磁控濺射類金剛石(DLC)。

Ti摻雜對磁控濺射類金剛石(DLC)薄膜附著力（lì）及（jí）硬度會有（yǒu）什麽影響？

采用納米劃痕儀和顯微硬度計分析測試了薄膜的附著力和硬度。研究表明金屬T的摻雜有利於（yú）DLC薄膜附著力特性的（de）改善但對硬度有一定的（de）影響（xiǎng）。Ti應力緩和層的導入進一步改善了 T-DLC薄膜的附著力（lì）特性使其達到或超過了TIN薄膜的水平對（duì）於附著力的改善T應力緩（huǎn）和層存在最佳的厚度值采用（yòng）特（tè）殊的變周期多層結構設計（jì）即在應力集中的膜基界麵（miàn）附近（jìn）采用較（jiào）小的調製周期薄膜頂層附近采用較大的調製周期不但可以保持足夠的附著力還可維持Ti-DLC薄膜原有的硬度。

應（yīng）力緩和層對應力的緩解作用與（yǔ）層數,厚度及軟層/硬（yìng）層厚度（dù）的相（xiàng）對比（bǐ）等間存（cún）在（zài）著密切的關係。多層薄膜的（de）附著力緩和層的Ti/ TDLC/ TiDLC.特性發現對於具有層厚應力緩和（hé）層的 TiDLC多層膜其附著力結果有較大的差別，這（zhè）說明應力緩和（hé）層具有最（zuì）合適的厚（hòu）度，太薄其相對滑動”不（bú）能發揮最大（dà）的應力緩和作用,太厚也不一（yī）定有利於附著力的提高。