類金剛石膜是以石墨或碳氫化合物等為原料，在低（dī）溫低壓下人工合成的一種含有SP3和SP2鍵的非晶碳膜。由於其具有一係列與金剛石相接（jiē）近的優良（liáng）性能和結構特征，國內（nèi）外科技工作者對DLC膜的製備工藝、結構形態、物理測定、應用開拓和（hé）專業（yè）化生產等方麵進行（háng）了（le）廣泛的研究,采用陽極型氣體離子源結合非平衡磁控濺射複合技術的方法，製備Cr過渡層的DLC/wcc薄膜，並對其膜層性能、界（jiè）麵（miàn）、結構及成分分布等進行了分析，以期為（wéi）製（zhì）備優質（zhì）的DLC膜積累有用的特性數據。

       采用陽極層流型（xíng）矩形氣（qì）體離子源，並結（jié）合非平衡磁控濺射進行摻鎢類（lèi）金剛石薄膜沉積。主要沉（chén）積DLC薄膜:當在磁控靶前麵時，主（zhǔ）要沉積wcc薄（báo）膜，最終（zhōng）實現（xiàn）DLC/WCC多層膜的（de）製備（bèi）。

       DLC/wcc薄膜(約2200nm)。膜層總厚度約（yuē）2.7um;顯微硬度HV0.025,15為3550，明顯高於摻鈦類金剛石膜的硬（yìng）度(HV0.025,15為2577);摩擦因數為0.139(與鋼對磨（mó）)。

        所（suǒ）沉積的膜（mó）層與較軟的Ti6AI4V基體結合（hé）良好，劃痕邊緣沒有明顯的崩膜，到52N後才露出基體（tǐ），也就是膜基結（jié）合力達到了52N，達到工業應用離子鍍TiN薄膜的膜/基結合水平。

1、膜層（céng）厚度2.7μm，硬度為3550HV，與鋼對（duì）磨（mó）時摩擦因數為（wéi）0.139，在Ti6AI4V鈦合金上膜/基結合力達52N。

2、WCC/DLC多層膜，調製周期為4nm。

3、DLC/wcc薄（báo）膜仍呈現出類金（jīn）剛石膜的主要特征