自1980年以來，類金剛石塗層作為新型鍍膜技術一直廣受歡迎，而我國（guó）在這方麵也（yě）取得了一些進展，但與發達國家相比仍然還（hái）有差距。

類金剛石（shí）塗層目前有很多種類，一般類金剛石塗層分為氫（qīng）化類金剛石（shí）碳膜(a-C：H)和無氫類金剛石碳（tàn）膜(a-C)兩大類，由於其結構工（gōng）藝機理極為複雜，目前DLC塗層在高溫（wēn）下會出現穩定性問題，比如（rú）在超過400度後DLC塗層會存在很大的內應力，也會降低其結合力，會是的DLC膜層出現起皺（zhòu），脫落。

但是（shì）這也阻擋不了（le）DLC塗層由於特殊的結（jié）構，兼備鑽石性能（néng），所以它同時也擁有很多優異的性能，比如DLC塗層的抗磨性（xìng）、化學惰性、沉積溫度低、膜麵光滑，可以將其作為一些電子產品的保護膜。

類金剛石DLC在電（diàn）子行業的應用

如噴（pēn）墨打印機墨盒（hé）加熱層上、磁存儲器的表麵、電器中的音（yīn）膜、半導體行業的電路板加一層類金剛石膜 DLC 保（bǎo）護層、不僅能有效的減少機械損傷，又不影響數據存儲。

類金剛石膜具有電阻率高、絕緣性強、化學惰性高和低電子（zǐ）親和力等性能。人們將類金剛石膜用作光刻電路板的掩膜，不僅可（kě）以避免操作過程中的機械損傷，還可以在（zài）去除薄膜表麵的汙染物允許（xǔ）用較激烈的機械或化學（xué）腐蝕方法，且且同時不會破壞薄膜的表麵。

采用類金（jīn）剛石膜和碳膜交替出（chū）現的多層（céng）膜（mó）結構（gòu）構造成的多量子阱（jǐng）結構，具有共振隧道效應的（de）和獨特的電特性，在微電子領域（yù）有著潛在的應用前景。類金剛石膜具有良好的（de）表麵平麵光滑度，電子發射均勻（yún）性好（hǎo），即使在較低（dī）的外電（diàn）場作用下，也可產生（shēng）較大的發（fā）生電流，這個性能在平板顯示（shì）器中有著特殊的（de）使用價值。