PVD物理氣相沉積采用低電壓大電流的電弧放電技術，通過荷（hé）能粒子的轟擊，將其吸引並沉積到工件表麵形成3~5um的超硬（yìng）薄膜層。利用PVD法可在工件表麵沉積類金剛石dlc、氮化鈦TiN、氮化鉻CrN、DLC、TiAIN等單層多層複合塗層。

離子束DLC:碳氫氣體（tǐ）在離子源中被離化成等（děng）離子體（tǐ），在電磁場的（de）共同（tóng）作用下，離子源（yuán）釋放出（chū）碳離子。離子束能量通過調整（zhěng）加在等離子體上的電（diàn）壓來控製。碳（tàn）氫離子束被引到基片上，沉積（jī）速度與離子電流密度成正比。星弧塗（tú）層的離子束源（yuán）采（cǎi）用高電壓，因而離子能（néng）量更大（dà），使得薄膜與基片結合力很好;離子電流更大，使得DLC 膜的沉積速度更快。

DLC膜層是一種由碳元素構成的類（lèi）似（sì）鑽石的碳薄膜，具有優異的硬度（dù）、耐磨性和化學穩定性。在許多領域中，DLC膜層被廣泛應用於減摩、潤滑、防腐蝕等方麵。然而，熱膨脹是 DLC膜層應用過程中需要考慮的一個重要因素。

由於DLC膜層（céng）中含有較高比例的碳元素，其熱膨脹係數通常較低。這是因為碳元素的原子半徑（jìng）較小，原子（zǐ）間的結合力較強，使得DLC層在溫度變化下的（de）膨脹程度較小。此外，DLC膜層中還可能摻雜其他元素，如氫、氮、矽等，這些元素的加入會對膨脹係數產生一定（dìng）的影響。

DLC膜層參數

1.硬度極（jí）高（gāo）(超過Hv2000-Hv4500):代表耐性極好;

2.摩擦係（xì）數低(DLC=0.04):改善拉伸五金衝壓、成型的潤滑問題;

3.耐高溫(最高（gāo）達到350℃):不容易氧化（huà），改（gǎi）善幹切削和壓鑄成（chéng）型問（wèn）題;化學屏障（zhàng）/導熱率低:可有效防（fáng）止因高溫導致硬質合金刀具的鑽元素流失（shī）:改善壓（yā）鑄出現的熱（rè）龜（guī）裂問（wèn）題;

4.厚度可控製（zhì）在1-5微米以內:塗層（céng）後不影響產品（pǐn）的最終尺寸