物理氣相沉積(PVD) 是（shì）一種薄膜製備技術，可在真空（kōng）條件下將材料（liào）源（固體或液體）表麵物理汽化成氣（qì）態原子（zǐ）、分（fèn）子或部分電（diàn）離成離子。然後，通過低壓氣體（或等離子體）在基（jī）板表麵沉積具有特定功能的膜。物理氣相沉積的主要方法有真空蒸鍍、濺射（shè）沉積（jī）、電弧等離子（zǐ）鍍、離子鍍等（děng）。PVD薄（báo）膜沉（chén）積（jī）速（sù）度（dù）快、附著力強、衍射性能（néng）好、應（yīng）用範圍廣。

DLC主要采用（yòng）PVD或PACVD工藝，在（zài）100℃~300℃的溫度下合成，具有良好的耐磨性、潤滑性，且具有電（diàn）氣絕緣、化學穩（wěn）定性和光透性。鍍膜（mó）可覆蓋鐵或非鐵金屬及塑料、陶瓷。主要（yào）碳素塗層根據（jù）氫（qīng）含量和原（yuán）子間的結合構造分為DLC(a-C:H)、ta-C和Diamond塗層。

那麽PVD塗層（céng）與DLC塗層有哪些區別呢？今天麻豆影视国产在线观看小編就從三個（gè）維度為大家分析。

1. 不（bú）同塗層材料（liào）：PVD（Physical Vapor Deposition，物理氣相沉積）塗層（céng）通常使用金屬材料以及一（yī）些金屬（shǔ）化（huà）合物作為塗層材料，較常見的有氮化物、氧化物、碳化物等材料。而DLC（Diamond-Like Carbon，類金鑽（zuàn）碳）塗層則是由一層（céng）類似（sì）於天然（rán）金剛石（shí）結構（gòu）的碳膜組成。

2. 塗（tú）層硬度不同：PVD塗層硬度大多在1000-4000HV之間，DLC塗層硬度一般為2000HV-9000HV以上（shàng），具有更好的耐（nài）磨性、抗腐蝕性和潤滑性。

3.膜層的特性有所不同，PVD鍍膜後的膜層，具有耐磨損，耐腐蝕，顏色亮麗多樣，導電、絕緣等特性（xìng），DCL(膜層和PVD鍍膜相比，DLC膜（mó）層的（de）硬度更高，摩擦（cā）係數更低，更耐腐蝕（shí），環（huán）保且抗粘附性更（gèng）好。

4.用（yòng）途有所（suǒ）不（bú）同，PVD鍍膜廣泛（fàn）應用於數碼產品、飾品（pǐn）、手表、智能穿戴產（chǎn）品、醫療器械、半導體（tǐ）、消費類電子產品等領域，而DLC廣泛應用於機械功能領域，比如（rú）鑽頭、銑刀、模具及其輔（fǔ）助模具、剪刀、軸承（chéng）、等領域。

5.塗層製（zhì）備方法不同,PVD鍍: PVD鍍的（de）方法有，真空蒸鍍、濺射鍍膜、電弧等離子體鍍、離子鍍膜，及分子束外延等,DLC: DLC的（de）方法有真空（kōng）蒸發、濺（jiàn）射、等離子體輔助化（huà）學（xué）氣相沉積、離子注入等。